（12）发明专利申请
（21）申请号 CN201210229675.4 （22）申请日 2012.07.04 （71）申请人 苏州大学
地址 215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号
（10）申请公布号 CN102722091A
（43）申请公布日 2012.10.10
（72）发明人 胡进;浦东林
（74）专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 常亮
（51）Int.CI
G03F7/20;
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
双光束干涉光刻方法和系统
（57）摘要
本发明公开了一种双光束干涉光刻方法和
系统，其方法包括：两路光束在加工工件表面实现N次干涉曝光，相邻两次曝光位置之间的错位值为d
法律状态
法律状态公告日
2012-10-10
公开
法律状态信息
公开
法律状态
法律状态公告日
2012-10-10 2012-12-05 2012-12-05 2014-04-30 2014-04-30 2017-08-18
公开
法律状态信息
公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权 专利权的终止
法律状态
实质审查的生效 实质审查的生效 授权 授权 专利权的终止
权利要求说明书
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说明书
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