专利名称：基于圆形掩模的步进扫描光刻机及其曝光方法专利类型：发明专利发明人：霍志军,周金明申请号：CN201310103916.5申请日：20130327公开号：CN104076613A公开日：20141001
摘要：本发明涉及一种基于圆形掩模的步进扫描光刻机及其曝光方法，其结构包括照明系统、用于承载硅片的工件台、用于承载圆形掩模的掩模台以及同步控制系统，所述照明系统提供光源，所述同步控制系统控制所述工件台做直线运动，控制所述掩模台做圆周运动，所述掩模台圆周运动的圆心为所述圆形掩模的圆心。本发明中，基于圆形掩模而设计的同步控制系统控制工件台、掩模台以及照明系统的运动，按照特定的路径完成扫描，完成一个曝光场的扫描后，圆形掩模继续做匀速圆周运动，工件台继续做匀速直线运动，进行下一个曝光场的扫描，大大减少发生路径折返的次数，降低了系统资源的开销，同时减少了掩模台、工件台的变速运动过程，提高了成像质量及精度。
申请人：上海微电子装备有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张东路1525号
国籍：CN
代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
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